&：我是没想明白这一章哪里违“规矩”，审一个多小时，哭唧唧

        ““太阿”设计一台目前市面最高JiNg度的光刻机出来。”

        “好的先生。大概需要2个小时。”

        光刻机是制造微机电、光电、二极T大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的特殊材料，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的理论，获得b模板更小的曝光图样。

        上个世纪末，国内大多数研发团队就是这样陷入无钱，无人的尴尬境地，最终一个个研发团队解散。研究人员为了钱或是下海经商，或是出国。

        “先生，1纳米光刻机设计完成了。是否制造出来？”

        “造一台看看效果。把技术资料和设计图发给我看看。”

        “太阿”在搭配光量子计算机的庞大算力，在技术壁垒没有跨越时代的情况下，是当之无愧的全能。白涟将到资料翻来曝光系统设计上。这才是光刻机的重点。

        这是高能激光发生器的运作原理？这个透镜也是高能激光发生器的设计原理之一。

        白涟想了想尝试对系统发出询问。

        “系统，优化光刻机需要多少生物能？”

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